ASML et imec ouvrent un « terrain de jeu » pour les machines EUV à haute O.N.

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ASML accueille les fabricants de puces dans un tout nouveau laboratoire de test sur son site à Veldhoven. Ils y découvriront les machines EUV les plus avancées.

Par un communiqué de presse, ASML et imec ont inauguré le High NA EUV (lithographie extrême ultraviolet à haute ouverture numérique) Lithography Lab. ASML et imec géreront le laboratoire de test ensemble sur le site de production d’ASML à Veldhoven, aux Pays-Bas. Les fabricants de puces et les fournisseurs de matériaux y sont les bienvenus pour découvrir les machines les plus avancées d’ASML.

High NA (haute O.N.)

Son produit phare est le Twinscan EXE:5000, un scanner EUV à haute ouverture numérique. La description High-NA (« Numerical Aperture ») fait référence à l’équipement numérique plus élevé de l’objectif du scanner, qui est de 0,55 alors que la plupart des machines ont une ouverture de 0,33. Ce système devrait permettre à l’avenir de développer des puces encore plus petites avec une densité plus élevée que la technologie actuelle.

Luc Vandenhove, PDG d’imec, souligne l’importance de ce type de machine pour l’industrie mondiale des puces. « L’EUV à haute O.N. est la prochaine étape de la lithographie optique. Par rapport aux systèmes EUV existants, elle améliorera les rendements et réduira les temps de cycle et même les émissions de CO2. Ce sera donc un facteur clé pour faire entrer la loi de Moore dans l’ère ångström. Nous sommes ravis d’explorer ces possibilités dans la vie réelle. »

Jouets coûteux

En 2023, à la derniere minute, ASML a livré un premier modèle de la machine : Intel a été l’heureux élu. À partir de 2025 ou 2026, ASML prévoit de produire la machine plus massivement. Les protagonistes de l’industrie peuvent expérimenter dans le laboratoire de test avec la machine et, si possible, passer leurs commandes dès à présent. Le prix unitaire est estimé à environ 350 millions d’euros.

ASML high-NA euv scanner
ASML a livré la première machine EUV à haute O.N. à Intel à la fin de l’année 2023. Source : ASML

« Le laboratoire de lithographie permet à nos clients, partenaires et fournisseurs d’accéder au système EUV à haute O.N. pour le développement de processus tout en attendant que leur propre système soit disponible dans leurs usines. Ainsi, la courbe d’apprentissage de la technologie peut énormément être accélérée et faciliter son lancement en production », déclare Christophe Fouquet, PDG d’ASML, qui a repris le flambeau de Peter Wennink en avril dernier.

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