Des ingénieurs chinois ont construit un prototype fonctionnel d’une machine EUV. Ces machines extrêmement sophistiquées sont essentielles à la production de microprocesseurs modernes et sont fabriquées dans le monde entier uniquement par ASML aux Pays-Bas.
Le Néerlandais ASML risque de perdre son monopole sur les machines de lithographie avancées pour la production de puces. Des ingénieurs chinois ont en effet réussi à construire eux-mêmes un prototype fonctionnel d’une machine EUV. La Chine franchit ainsi une étape énorme vers une production de puces véritablement indépendante au plus haut niveau, à l’abri des pressions ou sanctions occidentales.
Litho-quoi ?
Les machines de lithographie sont le cœur de la production de puces. Les appareils utilisent la lumière pour graver les circuits et les transistors des micropuces sur une tranche. C’est particulièrement complexe : aujourd’hui, les composants des puces sont si petits que la longueur d’onde de la lumière visible est beaucoup trop grande pour graver correctement les conceptions des puces. Essayez donc de colorier un dessin détaillé avec un rouleau à peinture.
ASML construit des machines de lithographie Extreme UV. Ce sont des appareils énormes et surtout extrêmement complexes qui, à l’aide de lasers et de miroirs complexes, génèrent et dirigent une lumière invisible avec une très petite longueur d’onde, afin d’appliquer les conceptions des CPU et GPU les plus modernes sur une tranche. Le développement de ces machines est si difficile et spécifique qu’ASML en a le monopole. Un seul appareil coûte environ 250 millions de dollars.
Pour ensuite mettre les appareils en service, des concurrents tels que Samsung, TSMC et Intel travaillent sagement avec l’Imec de Louvain, afin d’apprendre à utiliser efficacement les appareils complexes pour obtenir le résultat escompté. La connaissance d’ASML et de l’écosystème qui l’entoure est l’un des plus grands atouts de la production de puces occidentale.
Le destin entre ses propres mains
Le fait que la Chine ait maintenant assemblé elle-même une machine EUV menace de modifier les rapports de force dans la guerre technologique entre l’Est et l’Ouest. Si la Chine n’est plus dépendante d’AMSL, elle a essentiellement son propre destin en main en ce qui concerne la production de puces et peut mettre en place des usines indépendamment de l’Europe et des États-Unis pour fabriquer, par exemple, des puces de 5 nm et 3 nm.
Cette percée ne s’est pas faite par hasard. Selon Reuters, les Chinois ont mis au point le prototype EUV début 2025 et il est actuellement en cours de test. La machine a été construite par une équipe d’ingénieurs qui travaillaient auparavant chez ASML. Ils ont fabriqué la machine par rétro-ingénierie d’un appareil d’ASML.
Christophe Fouquet, PDG d’ASML, a déclaré précédemment qu’il faudrait de nombreuses années à la Chine pour développer la technologie EUV. Cette prédiction ne s’avère pas si exacte.
Des années de développement supplémentaires
Pourtant, le monopole d’ASML n’est pas encore rompu. La construction d’une machine fonctionnelle n’est qu’une première étape. L’appareil génère de la lumière EUV comme prévu, mais avec cette seule donnée, on ne construit pas encore une chaîne de production fonctionnelle. L’étape entre le prototype et la production dure chez nous des années et il en sera de même en Chine.
Les Chinois eux-mêmes espèrent construire effectivement des puces avec l’appareil en 2028, selon des sources à Reuters. D’autres sources proches du projet indiquent que 2030 est une échéance plus réaliste. Même cette échéance est toutefois des années en avance sur ce que les analystes avaient prévu.
lire aussi
Jensen Huang : « La Chine gagnera la course à l’IA »
De plus, le prototype de la Chine est beaucoup plus grand que la machine d’ASML, qui pèse déjà 180 tonnes et a la taille d’un bus de ligne. Cela s’explique notamment par le fait que les composants nécessaires aux machines EUV ne peuvent pas provenir de n’importe où. Pour diriger la lumière EUV, il faut en effet des miroirs et des lentilles très spéciaux, qui sont fabriqués pour ASML par Carl Zeiss. La lumière EUV est même absorbée par les matériaux les plus transparents, de sorte que les exigences pour ces composants optiques sont très élevées. Pour commercialiser le prototype, il reste donc quelques défis à relever.
Projet Manhattan
La Chine a pour objectif clair de fabriquer à terme des puces avancées sur des équipements entièrement chinois. C’est un tour de force incroyable, étant donné que l’industrie des puces comprend aujourd’hui une chaîne d’approvisionnement mondiale. Le plan est comparé, en termes d’ampleur et de complexité, au projet Manhattan américain, au cours duquel la bombe atomique a été développée pendant la Seconde Guerre mondiale.
Comme pour le projet Manhattan, la confidentialité était importante pour la Chine. De nombreux développements en direction de puces propres se sont déroulés publiquement, mais ce qui se passait dans un laboratoire à Shenzen n’était pas destiné aux regards indiscrets.
Les anciens employés d’ASML ont été recrutés en toute discrétion. La Chine s’est mise à la recherche d’experts retraités, car ils sont moins étroitement surveillés. Il va de soi que les employés sont liés par des obligations contractuelles qui interdisent le vol de la propriété intellectuelle. Les chercheurs ont donc commencé à travailler sous des pseudonymes. On ne sait pas si ASML a intenté une action en justice contre les personnes concernées.