Itdaily - Imec est le premier à fabriquer des qubits pour ordinateurs quantiques avec la machine EUV à haute AN d’ASML

Imec est le premier à fabriquer des qubits pour ordinateurs quantiques avec la machine EUV à haute AN d’ASML

Logo d'imec sur la façade blanche du bâtiment à Louvain, avec des herbes hautes devant.

Imec présente à l’ITF World le dispositif qubit à points quantiques, fabriqué par lithographie EUV à haute AN. Cette percée constitue une étape majeure vers le passage à l’échelle industrielle de qubits fiables pour les ordinateurs quantiques.

Imec a présenté le premier dispositif matériel intégré utilisant la lithographie EUV à haute AN pour la production de qubits à points quantiques. Ce développement a été exposé lors de l’ITF World à l’aide de la machine EUV à haute AN d’ASML.

Les ordinateurs quantiques sont capables d’être nettement plus performants que les ordinateurs classiques pour des problèmes complexes spécifiques, tels que le développement de médicaments et les simulations physiques. Pour rendre cette puissance exploitable en pratique, un passage à l’échelle vers des millions de qubits fiables et interconnectés est nécessaire. La démonstration d’Imec rapproche cette vision de la réalité.

Les qubits de spin à points quantiques en silicium comme candidats industriels

Parmi les différentes approches de l’informatique quantique, les qubits de spin à points quantiques en silicium se distinguent comme des candidats prometteurs pour l’échelle industrielle, selon l’imec. Leur production s’aligne sur la technologie CMOS existante, permettant ainsi de mobiliser l’infrastructure et les connaissances actuelles. Selon l’imec, cette compatibilité offre un avantage certain pour un déploiement à grande échelle.

Ces qubits utilisent un électron piégé dans une nanostructure sur silicium, l’état de spin de l’électron étant utilisé pour stocker l’information quantique. Grâce à la lithographie EUV à haute AN, l’imec a pu réaliser des structures précises avec des ouvertures de seulement six nanomètres entre les grilles. Cela minimise le bruit ambiant et rend théoriquement possible l’intégration de millions de qubits sur une seule puce.

Image en fausses couleurs d'un qubit au microscope électronique, électrodes étiquetées, échelle 200 nm
Des grilles d’à peine six nanomètres, rendues possibles par la lithographie EUV à haute AN. Source : imec

La lithographie EUV à haute AN comme force motrice

L’utilisation de la lithographie EUV à haute AN est, selon l’imec, cruciale pour le façonnage précis des motifs minuscules nécessaires aux qubits à points quantiques. En effet, la distance entre les électrodes de contrôle détermine directement la force de couplage des qubits.